原裝供應(yīng)EBARA 荏原 G6-E P1-P4 燃燒式廢氣處理

2025/03/13 10:22:06

型號 G6-E

可同時大流量處理氫氣和氯氣的燃燒式廢氣處理系統(tǒng)

燃燒廢氣處理系統(tǒng)

與高流量氯氣和氫氣兼容

多種氣體的批處理

PFC 氣體的高效處理

副產(chǎn)品對策和粉末自動卸料功能

運(yùn)行成本低

按需作

提高可維護(hù)性

產(chǎn)品介紹

G6-E 型是一種燃燒式廢氣處理系統(tǒng)，適用于處理半導(dǎo)體制造過程中外延生長設(shè)備中使用的含有高流量氫氣和氯氣的廢氣。緊湊的設(shè)計(jì)能夠進(jìn)行高達(dá) 200 L/min 的氫氣處理，還支持同時處理氫氣和氯氣。標(biāo)配副產(chǎn)品去除功能，降低了維護(hù)成本和負(fù)載。

規(guī)范

型	單位	G6-E A1~A4	G6-E P1~P4
加工方法		燃燒 + 濕式	燃燒 + 濕式
*進(jìn)氣量	升/分鐘	400	400
燃料		城市燃?xì)?	丙烷氣
大小	寬 x 深 x 高 mm	1,200×650×1,900 毫米	1,200×650×1,900 毫米
H? *流速	升/分鐘	200	200
可處理氣體示例		工藝（倉庫）氣體 H2、PH3、Si3H8、SiH4、PH3、GeH4、AsH3、NH3、SiH2Cl2、B2H6 等。一般清洗氣體 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2 等。蝕刻氣體一般為 HBr， Cl2、SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6 等。	工藝（倉庫）氣體 H2、PH3、Si3H8、SiH4、PH3、GeH4、AsH3、NH3、SiH2Cl2、B2H6 等。一般清洗氣體 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2 等。蝕刻氣體一般為 HBr， Cl2、SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6 等。
標(biāo)準(zhǔn)設(shè)備		大流量 H2 加工燃燒器	大流量 H2 加工燃燒器
標(biāo)準(zhǔn)設(shè)備		除粉 vernas 刮刀	除粉 vernas 刮刀
選擇		市政水和廢水消耗減少裝置	市政水和廢水消耗減少裝置
選擇		粉體減排風(fēng)機(jī)洗滌器	粉體減排風(fēng)機(jī)洗滌器

北崎8年，日本會社20年，專注領(lǐng)域如下：
儀器相關(guān)：
山高SANKO（代理）、東機(jī)產(chǎn)業(yè)TOKI（代理）、索尼克SONIC（代理）、東日技研DIT（代理）、杉山電機(jī)SUGIYAMA（代理）、愛安德AND(廠家合作）、飯島電子IIJIMA、東麗TORAY、共和KYOWA、愛安德AND、豪雅HOYA（代理）
備件設(shè)備相關(guān)：
柴田SIBATA(代理）、壺坂TSUBOSAKA（代理）、雅馬拓YAMATO、新光NEWKON（代理）、武藏MUSASHI（代理）、尼得科NIDEC（代理）、MRM(代理）、坂口電熱SAKAGUCHI（代理）、岡崎OKAZAKI、椿本TUSBAKI（廠家合作）、山本鍍金YAMAMOTO、馳卡沙TSUKASA、朝日分光ASAHI、東機(jī)理化EYELA、科庫森KOKUSAN
光源相關(guān)：
巖崎EYE（代理）、日森SEN（代理）、晰寫速CCS（代理）、萊寶克斯REVOX（代理）、索萊克SERIC(代理）、普拉瑞POLARION、船越龍F(tuán)UNATECH、牛尾USHIO、艾泰克ATIEC、山田YAMADA、拓普康TOPCON、歐阿希ORC、賽納SENA、英富麗INFLIDGE
電氣控制：
SIEMENS西門子（廠家合作）、MITSUBISHI三菱，OMRON歐姆龍（廠家合作）、基恩士KEYENCE（廠家合作）

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